米華字メディア・多維新聞は2019年7月10日付で、「集積回路分野で知的財産権激増の中国、米国の『後押し』と切り離せない」と指摘する記事を掲載した。

中国国家知識産権局は9日、第3四半期（7－9月期）の定例記者会見を開き、特許や商標登録の出願件数などに関する上半期の統計データを発表した。集積回路（IC）のレイアウト・デザイン登録の出願件数は前年同期比45．7％増の2904件、証書交付件数は同52％増の2487件に達しており、「知的財産権をめぐる上半期の主要指標は予測と合致した」と述べたという。記事はIC分野のこの数字が「特に注目を浴びた」と説明した。

記事によると、中国メディアの参考消息は「こうした成績が出せたことを、『後押し』してくれた米国に感謝せねばならないだろう」と述べ、米国留学で知識を蓄えた大量の人材の帰国がハイテク分野における中国の急成長をもたらしたと説明。多維新聞記事は「米国の大学は中国の研究計画に対する審査を強化し、各種協力の制限まで行った。会議に参加する中国人研究者へのビザ発給も先延ばしになるなどした」という米メディアの4月の記事を紹介し、「米国のビザ政策の引き締めが一部中国人研究者の帰国につながったとみられる。こうした新たな人材の流入が中国の発展を後押しするだろう」と論じた。（翻訳・編集/野谷）